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當(dāng)前位置:首頁  >  新聞中心  >  萊伯泰科《硅片表面金屬離子國產(chǎn)檢測儀器首創(chuàng)項目》 獲中國檢驗檢測學(xué)會科學(xué)技術(shù)獎

萊伯泰科《硅片表面金屬離子國產(chǎn)檢測儀器首創(chuàng)項目》 獲中國檢驗檢測學(xué)會科學(xué)技術(shù)獎

更新時間:2024-03-18      點擊次數(shù):1996

近期,“2023年度中國檢驗檢測學(xué)會科學(xué)技術(shù)獎”獲獎名單公布,北京萊伯泰科儀器股份有限公司(簡稱“萊伯泰科”)憑借其《硅片表面金屬離子國產(chǎn)檢測儀器首創(chuàng)項目》榮獲科學(xué)技術(shù)進(jìn)步獎二等獎。

 

獲獎 

該獎項由中國檢驗檢測學(xué)會設(shè)立,旨在表彰那些在檢驗檢測科學(xué)技術(shù)領(lǐng)域或相關(guān)領(lǐng)域,通過技術(shù)發(fā)明、科技進(jìn)步、國際科技合作等活動,對推動檢驗檢測科學(xué)發(fā)展做出顯著貢獻(xiàn)的組織和個人。

萊伯泰科于2021年5月和2023年3月分別推出了自主研發(fā)的LabMS 3000電感耦合等離子體質(zhì)譜儀和LabMS 5000電感耦合等離子體串聯(lián)質(zhì)譜儀,其技術(shù)成熟度與產(chǎn)品可靠性已經(jīng)滿足國內(nèi)集成電路制造企業(yè)對28nm以上制程硅片表面金屬離子檢測的需求,并已成功應(yīng)用于半導(dǎo)體晶圓制造企業(yè),在半導(dǎo)體行業(yè)有了巨大突破。

萊伯泰科此次獲獎的《硅片表面金屬離子國產(chǎn)檢測儀器首創(chuàng)項目》成功解決了國產(chǎn)儀器在此領(lǐng)域的技術(shù)空白,有望打破國外技術(shù)的長期壟斷。該項目依托先進(jìn)的ICP離子源技術(shù)、加強(qiáng)的離子傳輸系統(tǒng)和基于CAN總線的電控系統(tǒng),實現(xiàn)了儀器的高效穩(wěn)定運行及精準(zhǔn)檢測,滿足了半導(dǎo)體硅片行業(yè)對極低檢出限的嚴(yán)苛要求。

實驗 

憑借在電感耦合等離子體質(zhì)譜技術(shù)領(lǐng)域的豐富創(chuàng)新經(jīng)驗,萊伯泰科一直致力于為半導(dǎo)體行業(yè)提供更加精準(zhǔn)、高效的解決方案。今天的榮譽(yù)標(biāo)志著萊伯泰科在科技創(chuàng)新道路上達(dá)到了新的里程碑。未來,萊伯泰科將繼續(xù)專注于高端科研設(shè)備的研發(fā),努力推動科學(xué)儀器技術(shù)的持續(xù)進(jìn)步,為行業(yè)的發(fā)展貢獻(xiàn)自己的智慧和力量。

電感耦合等離子體質(zhì)譜儀LabMS 3000 ICP-MS

電感耦合等離子體質(zhì)譜儀LabMS3000ICP-MS5432 

l   強(qiáng)大:集成型高基質(zhì)進(jìn)樣系統(tǒng),支持在線氬氣稀釋和有機(jī)樣品加氧除碳,從而減少樣品前處理時間并避免此過程中引入的各種污染

l    精準(zhǔn):新一代碰撞反應(yīng)池技術(shù),消除棘手的多原子離子和雙電荷離子干擾,提升數(shù)據(jù)質(zhì)量

l   安全:具有多重安全防控以及定時維護(hù)日志,確保儀器在安全、可靠的狀態(tài)下運行,盡量減少計劃外的停機(jī)和提供安全保護(hù)

l   智能:HiMass智能工作站,中英文語言實時切換,支持接入實驗室管理系統(tǒng)和定制報告模版,向?qū)皆O(shè)計更符合中國人操作習(xí)慣

l      高效:與LabTech前處理設(shè)備無縫銜接實現(xiàn)一站式元素分析解決方案,使元素分析更高效、更準(zhǔn)確、更安全

LabMS 5000 電感耦合等離子體串聯(lián)質(zhì)譜儀(ICP-MS/MS)

img4 

l    精準(zhǔn):MS/MS模式實現(xiàn)受控且可靠的干擾去除,精準(zhǔn)去除質(zhì)量干擾離子,從而獲得更低的檢測限和準(zhǔn)確的超痕量分析結(jié)果。

l    穩(wěn)定:采用工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)27.12MHz 全固態(tài)RF發(fā)生器,具有高穩(wěn)定性及可靠性;優(yōu)異的離子傳輸系統(tǒng)設(shè)計即使在MS/MS模式下也具有良好的檢測穩(wěn)定性。

l    可靠:通過 SEMI S2 認(rèn)證,多達(dá)十重安全防護(hù)配置,帶來全面可靠的安全防護(hù),保證儀器長時間安全可靠運行。

l   強(qiáng)大:全基體進(jìn)樣系統(tǒng)結(jié)合接口設(shè)計及加強(qiáng)離子傳輸系統(tǒng),帶來強(qiáng)大的基體耐受性,即使高基體直接進(jìn)樣也可有效降低信號漂移。

l    易用:HiMass智能工作站,一鍵式,向?qū)健⒛K化設(shè)計,界面簡潔直觀,易學(xué)易用,提高工作效率。

 

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